专利名称：一种钨化学机械抛光方法专利类型：发明专利发明人：王晨,何华锋
申请号：CN201010526490.0申请日：20101029公开号：CN102452036A公开日：20120516
摘要：本发明公开了一种钨化学机械抛光方法，包括下列步骤：(a)将一化学机械抛光液前体与一活性还原剂掺混，以制备化学机械抛光液；和(b)将所述化学机械抛光液用于钨的化学机械抛光；其中：所述活性还原剂可以显著提高氧化剂的活性和氧化效率。本发明的化学机械抛光液前体中同时存在两种或两种以上的氧化剂，在加入活性还原剂之后，可以使得失去活性的氧化剂恢复氧化活性并提高氧化效率，从而最终获得很高的抛光速度。
申请人：安集微电子(上海)有限公司
地址：201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室
国籍：CN
代理机构：上海翰鸿律师事务所
代理人：李佳铭
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