专利名称：衬底处理设备专利类型：发明专利
发明人：金俊浩,安载信,辛东烈,韩宰贤申请号：CN201710946840.0申请日：20171012公开号：CN107946162A公开日：20180420
摘要：本发明的衬底处理设备包括：腔室，具有衬底处理空间；及线圈部分，具有多个电感线圈，其的每一者具有缠绕成包围腔室的外圆周的形状且排列在腔室的延伸方向上，多个电感线圈包括：边缘型电感线圈，在腔室中形成在与衬底的边缘区域对应的区域处的密度高于在与衬底的中心区域对应区域处的密度的等离子体；及中心型电感线圈，在腔室中形成在与衬底的中心区域对应的区域处的密度高于在与衬底的边缘区域对应区域处的密度的等离子体。本发明的实施例带来等离子体的空间均匀度提高而衬底处理均匀度提高的效果。且通过在上下方向上堆叠及安装多个电感线圈带来与衬底处理面对应形成的等离子体容量增大而随处理区域而变化的等离子体密度增大的效果。
申请人：AP系统股份有限公司
地址：韩国京畿道华城市东滩面东滩产团8便道15-5
国籍：KR
代理机构：北京同立钧成知识产权代理有限公司
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