专利名称:基板处理系统、基板处理装置的控制方法和程序专利类型:发明专利
发明人:竹永裕一,山口达也,王文凌,高桥敏彦,米泽雅人申请号:CN200810167416.7申请日:20080926公开号:CN101399176A公开日:20090401
摘要:本发明提供能够有效地控制被处理的基板的成膜量的基板处理系统、基板处理装置的控制方法和程序。基板处理系统包括:在多个基板上进行成膜的基板处理部;取得表示上述多个基板中的未处理基板和已处理基板的配置的配置模式的信息的取得部;和存储表示上述多个基板中的未处理基板和已处理基板的配置对基板的成膜量施加的影响的配置-成膜量模型的存储部。根据上述配置-成膜量模型,通过计算部计算上述配置模式下的基板的预测成膜量。通过判断部判断上述计算出的预测成膜量是否在规定范围内,当判断上述计算出的预测成膜量在规定范围内时,通过控制部控制上述基板处理部对基板进行处理。
申请人:东京毅力科创株式会社
地址:日本东京都
国籍:JP
代理机构:北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人:龙淳
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