专利名称：等离子体清洗方法专利类型：发明专利发明人：桑宁波,周军
申请号：CN201310122224.5申请日：20130409公开号：CN103219227A公开日：20130724
摘要：本发明提供了一种等离子体清洗方法，包括：执行远程等离子体清洗；执行氮气射频原位等离子体清洗；执行保护膜沉积。本发明等离子体清洗方法中采用远程等离子体清洗和氮气射频原位等离子体清洗组合的方式进行清洗，大大改善了晶片的背面被金属铝污染的问题。
申请人：上海华力微电子有限公司
地址：201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路497号
国籍：CN
代理机构：上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：陆花
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